CVD后清洗：除去CVD过程中的颗粒。 附件及工具的清洗：除去表面所有的沾污物。 硅片清洗设备 可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如：RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。 全自动硅片清洗机 手动硅片清洗机 附件及工具清洗设备 石英管清洗机 酸碱清洗台 有机化学超净工作台 部件清洗台 氮气储存柜 硅片清洗设备特点 手动硅片清洗设备。济宁万和超声电子设备有限公司 可根据不同的清洗工艺配置各种相应的清洗功能槽。
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